Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Gesamtpunktzahl erreicht und konnte insbesondere in den vorteilhafteren Lebenszykluskosten und in der höheren technischen Reife der angebotenen Lösung überzeugen.
- Fourniture
Système de dépôt en grappe de couches minces pour la pulvérisation de métaux et de diélectriques
- Lieu
- Canton ZH
- Service d'achat
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Service demandeur
- ETH Zürich - B & R Nanotechnology Center (BRNC)
Adjugé
Adjugé à
- Evatec AG, TrübbachCHF 2’870’055.00
Qu'est-ce qui est acquis ?
Étendue des prestations
Installation de revêtement en couche mince en cluster pour la pulvérisation de métaux et de diélectriques. Système en cluster avec un sas et 4 chambres de processus (PC) pour la pulvérisation DC et RF de diélectriques et de métaux sur des substrats semi-conducteurs et autres. Pour plus de détails, veuillez consulter notre spécification.
Données clés, codes et options
Données clés, codes et options
- Type de marché
- Fourniture
- Type de fourniture
- Achat
- Procédure
- Procédure ouverte
- Corps de métier
- Ne ressort pas des données de publication disponibles.
- CPV
- CPV 38000000 – Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
- Options
- Ne ressort pas des données de publication disponibles.
- Variantes
- Ne ressort pas des données de publication disponibles.
- Offres partielles
- Ne ressort pas des données de publication disponibles.
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Source officielle
- Numéro de projet simap
- 7527
- Numéro de publication
- 7527-02
- Soumis aux accords internationaux
- Oui
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