ICP3 Installation de gravure ionique FIRST ETH Zurich

Adjudicateur: ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Lieu: Canton ZH
Délai de remise: Aucun délai indiqué
Publié: 15.03.2025
Procédure: Procédure ouverte
Type: Fourniture
Numéro de projet: 4823
CPV: 38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)

Description

Livraison d'une installation de gravure ionique réactive avec plasma à couplage inductif, comprenant un système d'alimentation en gaz pour au moins 9 gaz, avec une pression de processus jusqu'à 100 mtorr et des flux de gaz jusqu'à 500 sccm, des générateurs RF/ICP dans la gamme des kW avec autotuning, surveillance spectroscopique du plasma, sas de chargement automatique pour un chargement rapide, pour des tailles d'échantillon à partir de 4 pouces de diamètre, avec régulation de la température de l'échantillon dans la gamme de 10 à 300°C.

Liens

Cet appel d'offres dans TEXFY: https://www.texfy.ch/fr/ausschreibungen/ea92da6f-8c3d-4978-b975-f3d7579d57d7
Publication officielle: https://www.simap.ch/fr/project-detail/bc0a3ccd-35a0-4853-9a03-2e217eab5db7