Appel d'offres, extrait
Maskless Aligner pour la lithographie sans masque
- Adjudicateur
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Lieu
- Canton ZH
- Délai de remise
- Aucun délai indiqué
- Publié
- 07.12.2024
- Type
- Fourniture
- Numéro de projet
- 7359
- CPV
- 38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Description
Système d'alignement sans masque pour la lithographie sans masque pour l'utilisation au Binning & Rohrer Nanotechnology Center (BRNC) de l'ETH Zurich chez IBM Research GmbH.
Liens
- Cet appel d'offres dans TEXFY: https://www.texfy.ch/fr/ausschreibungen/635c3672-8009-4c8f-9370-c265d841daa1
- Publication officielle: https://www.simap.ch/fr/project-detail/a78f19da-8653-4032-9c54-512fb7b7dd0f