Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Gesamtpunktzahl erreicht und konnte insbesondere in den vorteilhafteren Lebenszykluskosten und in der höheren technischen Reife der angebotenen Lösung überzeugen.
- Fornitura
Dünnschicht-Cluster-Abscheidungssystem für das Sputtern von Metallen und Dielektrika
- Luogo
- Cantone ZH
- Servizio d'acquisto
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Servizio richiedente
- ETH Zürich - B & R Nanotechnology Center (BRNC)
Aggiudicato
Aggiudicato a
- Evatec AG, TrübbachCHF 2’870’055.00
Che cosa si acquista?
Portata delle prestazioni
Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.
Dati principali, codici e opzioni
Dati principali, codici e opzioni
- Tipo di commessa
- Fornitura
- Tipo di fornitura
- Acquisto
- Procedura
- Procedura aperta
- Generi di lavoro
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
- CPV
- CPV 38000000 – Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri)
- Opzioni
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
- Varianti
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
- Offerte parziali
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
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Fonte ufficiale
- Numero di progetto simap
- 7527
- Numero di pubblicazione
- 7527-02
- Sottoposto ai trattati internazionali
- Sì
Approfondimenti nella guida
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