Bando, estratto
Dünnschicht-Cluster-Abscheidungssystem für das Sputtern von Metallen und Dielektrika
- Committente
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Luogo
- Cantone ZH
- Termine d'inoltro
- Nessun termine indicato
- Pubblicato
- 19.11.2025
- Procedura
- Procedura aperta
- Tipo
- Fornitura
- Numero di progetto
- 7527
- CPV
- 38000000 Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri)
Descrizione
Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.
Link
- Questo bando in TEXFY: https://www.texfy.ch/it/ausschreibungen/dfa4085a-1257-4299-b926-ed2bde5c923c
- Pubblicazione ufficiale: https://www.simap.ch/it/project-detail/f5338cbf-a4ce-43eb-9444-75dcb567dfd5