Es ging nur ein Angebot ein, dieses erfüllt aber alle Anforderungen.
- Fornitura
Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich
- Luogo
- Cantone ZH
- Servizio d'acquisto
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Servizio richiedente
- ETH Zürich - FIRST-CLA
Aggiudicato
Aggiudicato a
- Nanoscribe GmbH & Co. KG, Eggenstein-LeopoldshafenEUR 809’616.68
Che cosa si acquista?
Portata delle prestazioni
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt:
1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit
2) 3D-Druck von Strukturen in der Größenordnung von Submillimetern bis zu mehreren Millimetern in XYZ mit Hülle/Gerüst und frei beweglichen Teilen. Das System muss es dem Benutzer ermöglichen, zwischen verschiedenen Konfigurationen zu wechseln (höchste Auflösung, geringere Auflösung, aber schneller).
3) 3D-Druck auf verschiedenen Substraten wie Wafern, Chips und Fasern opaker und transparenter Beschaffenheit ohne Vorbehandlung.
Weitere Informationen finden Sie in den Ausschreibungsunterlagen.
Dati principali, codici e opzioni
Dati principali, codici e opzioni
- Tipo di commessa
- Fornitura
- Tipo di fornitura
- Acquisto
- Procedura
- Procedura aperta
- Generi di lavoro
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
- CPV
- CPV 38000000 – Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri)
- Opzioni
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
- Varianti
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
- Offerte parziali
- Non risulta dai dati di pubblicazione disponibili.
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Fonte ufficiale
- Numero di progetto simap
- 28750
- Numero di pubblicazione
- 28750-02
- Sottoposto ai trattati internazionali
- Sì
Approfondimenti nella guida
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