Bando, estratto
Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich
- Committente
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Luogo
- Cantone ZH
- Termine d'inoltro
- Nessun termine indicato
- Pubblicato
- 18.04.2026
- Procedura
- Procedura aperta
- Tipo
- Fornitura
- Numero di progetto
- 28750
- CPV
- 38000000 Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri)
Descrizione
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt:
1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit
2) 3D-Druck von Strukturen in der Größenordnung von Submillimetern bis zu mehreren Millimetern in XYZ mit Hülle/Gerüst und frei beweglichen Teilen. Das System muss es dem Benutzer ermöglichen, zwischen verschiedenen Konfigurationen zu wechseln (höchste Auflösung, geringere Auflösung, aber schneller).
3) 3D-Druck auf verschiedenen Substraten wie Wafern, Chips und Fasern opaker und transparenter Beschaffenheit ohne Vorbehandlung.
Weitere Informationen finden Sie in den Ausschreibungsunterlagen.
Link
- Questo bando in TEXFY: https://www.texfy.ch/it/ausschreibungen/80d3b508-f80d-4373-bfb5-5e71655555eb
- Pubblicazione ufficiale: https://www.simap.ch/it/project-detail/efad917e-20ce-44d5-8855-c7408d6d9cf2