Développement et fourniture d’un outil prototype pour le dépôt chimique en phase vapeur sous vide (HVCVD)

L’EPFL a l’intention d’acquérir un outil/prototype de dépôt chimique en phase vapeur sous vide poussé (HV-CVD). L’équipement sera dédié à la recherche de pointe dans les dispositifs photoniques intégrés de prochaine génération, les matériaux ferroélectriques pour le calcul RF reconfigurable et neuromorphique et plus largement les applications des matériaux ferroélectriques dans les micro- et nanodispositifs intégrés.