ICP3 Ionenätzanlage FIRST ETH Zürich

Lieferung einer reaktiven Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma, bestehend aus einem Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase, mit Prozessdruck bis 100 mtorr und Gasflüssen bis 500 sccm, RF/ICP-Generatoren im kW-Bereich mit Autotuning, spektroskopischer Überwachung des Plasmas, automatischer Ladeschleuse für schnelle Beladung, für Probengrößen ab 4 Zoll Durchmesser, mit Probentemperaturregelung im Bereich von 10 bis 300 °C.