Ausschreibung, Auszug
Dünnschicht-Cluster-Abscheidungssystem für das Sputtern von Metallen und Dielektrika
- Auftraggeber
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Ort
- Kanton ZH
- Eingabefrist
- Keine Frist angegeben
- Publiziert
- 19.11.2025
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Art
- Lieferung
- Projektnummer
- 7527
- CPV
- 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (ausser Gläser)
Beschreibung
Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.
Weiterführende Links
- Diese Ausschreibung in TEXFY: https://www.texfy.ch/de/ausschreibungen/dfa4085a-1257-4299-b926-ed2bde5c923c
- Offizielle Publikation: https://www.simap.ch/de/project-detail/f5338cbf-a4ce-43eb-9444-75dcb567dfd5