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- Lieferung
Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich
- Ort
- Kanton ZH
- Beschaffungsstelle
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Bedarfsstelle
- ETH Zürich - FIRST-CLA
Vergeben
Vergeben an
- Nanoscribe GmbH & Co. KG, Eggenstein-LeopoldshafenEUR 809’616.68
Was wird beschafft?
Leistungsumfang
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt:
1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit
2) 3D-Druck von Strukturen in der Größenordnung von Submillimetern bis zu mehreren Millimetern in XYZ mit Hülle/Gerüst und frei beweglichen Teilen. Das System muss es dem Benutzer ermöglichen, zwischen verschiedenen Konfigurationen zu wechseln (höchste Auflösung, geringere Auflösung, aber schneller).
3) 3D-Druck auf verschiedenen Substraten wie Wafern, Chips und Fasern opaker und transparenter Beschaffenheit ohne Vorbehandlung.
Weitere Informationen finden Sie in den Ausschreibungsunterlagen.
Eckdaten, Codes und Optionen
Eckdaten, Codes und Optionen
- Auftragsart
- Lieferung
- Lieferart
- Kauf
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Gewerke
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
- CPV
- CPV 38000000 – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (ausser Gläser)
- Optionen
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
- Varianten
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
- Teilangebote
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
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Offizielle Quelle
- Projektnummer simap
- 28750
- Publikationsnummer
- 28750-02
- WTO-Regeln gelten (Staatsvertragsbereich)
- Ja
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