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Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich

Beschaffungsstelle
ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Bedarfsstelle
ETH Zürich - FIRST-CLA
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  • Zuschlag vom 17.04.20261 Angebot

    • Nanoscribe GmbH & Co. KG, Eggenstein-LeopoldshafenEUR 809’616.68 inkl. MWST
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Begründung

Es ging nur ein Angebot ein, dieses erfüllt aber alle Anforderungen.

Was wird beschafft?

Leistungsumfang

Sprache der Publikation

Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt:

1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit

2) 3D-Druck von Strukturen in der Größenordnung von Submillimetern bis zu mehreren Millimetern in XYZ mit Hülle/Gerüst und frei beweglichen Teilen. Das System muss es dem Benutzer ermöglichen, zwischen verschiedenen Konfigurationen zu wechseln (höchste Auflösung, geringere Auflösung, aber schneller).

3) 3D-Druck auf verschiedenen Substraten wie Wafern, Chips und Fasern opaker und transparenter Beschaffenheit ohne Vorbehandlung.

Weitere Informationen finden Sie in den Ausschreibungsunterlagen.

Eckdaten, Codes und Optionen

Auftragsart
Lieferung
Lieferart
Kauf
Verfahren
Offenes Verfahren
Gewerke
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CPV
  • CPV 38000000 – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (ausser Gläser)
Optionen
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Varianten
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Teilangebote
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Offizielle Quelle

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Projektnummer simap
28750
Publikationsnummer
28750-02
WTO-Regeln gelten (Staatsvertragsbereich)
Ja

Mit simap abgeglichen: 10.11.2026, 18:02

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