Das gewählte Material entspricht zum jetzigen und voraussehbaren Zeitpunkt am ehesten unseren finanziellen Mitteln und Bedürfnissen (Sicherung der Investitionen) unter Berücksichtigung der schnellen Entwicklung der Anforderungen in der Forschung.
Vergeben
- Lieferung
zwei Sätze von acht Öfen zu erwerben, bestehend aus vier Rohren für chemische Niederdruck-Dampfabscheidungsverfahren (LPCVD) und vier atmosphärischen Rohren für die CMi
- Ort
- Kanton VD
- Beschaffungsstelle
- EPFL-Scientific Equipment
- Bedarfsstelle
- EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
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Vergeben an
- centrotherm international AG, BlaubeurenPreis nicht publiziert
Was wird beschafft?
Leistungsumfang
Die EPFL beabsichtigt, zwei Sätze von acht Öfen zu erwerben, bestehend aus vier Rohren für chemische Niederdruck-Dampfabscheidungsverfahren (LPCVD) und vier atmosphärischen Rohren für ihr MicroNanotechnologie Center (CMi). Die Bewertung basiert auf der Prozessleistung, der Robustheit der Ausrüstung und der Benutzerfreundlichkeit/Wartungsfreundlichkeit. Die Leistung wird anhand der Einheitlichkeit der Abscheidung/des Wachstums, der Wiederholbarkeit und der Prozessdauer bewertet. Die allgemeinen Anforderungen sind:
• (1 Rohr) LPCVD-Deposition von Polysilicium (Poly-Si), amorphem Silicium (aSi), N-dotiertem Polysilicium (N-Si) und P-dotiertem Polysilicium (P-Si) hoher Qualität und Dichte mit geringen Verunreinigungs- und Wasserstoffgehalten.
• (1 Rohr) LPCVD-Abscheidung von hochgradig stechiometrischem, hochbelastetem Siliziumnitrid (Si3N4) und niedrigbelastetem Siliziumnitrid (lsnit) hoher Qualität und Dichte mit geringen Verunreinigungen und Wasserstoffgehalten.
• (1 Rohr) LPCVD-Abscheidung von SiO2-Oxid (LTO) mit hoher Qualität und Dichte bei niedriger Temperatur, niedrigem Verunreinigungs- und Wasserstoffgehalt.
• (1 Rohr) LPCVD-Deposition von SiO2 TEOS-Oxid mit hoher Qualität und Dichte, niedrigem Verunreinigungs- und Wasserstoffgehalt.
• (1 Rohr) Trockene thermische Oxidation von Silizium.
• (1 Rohr) Feuchtig/trockene thermische Oxidation von Silizium.
• (1 Rohr) Hitzeglühen bei hohen Temperaturen (1250°C) unter N2.
• (1 Rohr) Feuchtig/trockene thermische Oxidation von Silizium, unter Formgas (N2/H2) oder Stickstoff N2 geglüht.
Eckdaten, Codes und Optionen
Eckdaten, Codes und Optionen
- Auftragsart
- Lieferung
- Lieferart
- Kauf
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Gewerke
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
- CPV
- CPV 38000000 – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (ausser Gläser)
- Optionen
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
- Varianten
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
- Teilangebote
- Nicht aus den verfügbaren Publikationsdaten ersichtlich.
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Offizielle Quelle
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- Projektnummer simap
- 25704
- Publikationsnummer
- 25704-02
- WTO-Regeln gelten (Staatsvertragsbereich)
- Ja
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