Wet workbenches for FIRST II in the new ETH HPQ building

Ausgeschrieben werden die Planung, Lieferung, Montage, der Anschluss sowie die Inbetriebnahme von insgesamt 12 modularen Nasswerkbänken mit einer Länge von je ca. 2,4 m für Prozessanwendungen im Reinraum FIRST II.

Die Anlagen dienen der nasschemischen Bearbeitung von 200-mm-Wafern bei geringem Chemikalienverbrauch. Je nach Ausführung umfassen die Nasswerkbänke Prozess- und Spülbecken, Ultraschallbecken, Wasser- bzw. Wafer-Spinner, Spinc oater mit Hotplates, Handwaschbecken sowie Medien-, Elektro- und Entsorgungsanschlüsse. Vorgesehen sind unterschiedliche Ausführungen für Lithografie- und Nasschemieprozesse, einschliesslich separierter Bereiche für Medien- und Abwasserströme (u. a. Laugen, Säuren und HF).

Alle Nasswerkbänke sind reinraumtauglich auszuführen. Sie müssen über eine Abluftüberwachung mit eindeutiger Störungsmeldung und Fehlerprotokollierung verfügen.