1 atomic layer deposition (ALD) system and 2 atomic layer etching (ALE) systems

Justification

gem. Art. 21, Abs. 2, Bst. c und e BöB Es wurde eine umfassende Beschaffungsmarktforschung durchgeführt und dabei stellte sich heraus, dass für unsere sehr spezifischen und neuartigen Bedürfnisse des Quantum Device Labors keine Alternative am Markt besteht, die sowohl technisch (Anwendungsmöglichkeiten wie auch Grösse/Gewicht) wie auch prozesstechnisch (Durchsatzmenge grösser als kleine Laborsysteme aber noch kleiner als grossindustrielle Anwendungen) erfüllen können. Die ALE Systeme von Oxford verfügen über einmalige Eigenschaften, die darüber hinaus patentiert sind. Ein wesentlicher Punkt, der für die drei Systeme von Oxford Instruments GmbH spricht, ist der kleine Platzbedarf und die bereits vorhandene Erfahrung in diesem sehr spezifischen Anwendungsbereich der Quantenphysik. Zusätzlich sind bereits in beiden Labors (BRNC und FIRST Lab) Systeme des gleichen Herstellers im Einsatz wodurch wir bei der Schulung und im Unterhalt sowie der Bedienung auf bereits vorhandene Erfahrungen zurückgreifen können. Weitere Informationen sind auf Wunsch erhältlich.