Das gewählte Material entspricht zum jetzigen und voraussehbaren Zeitpunkt am ehesten unseren finanziellen Mitteln und Bedürfnissen (Sicherung der Investitionen) unter Berücksichtigung der schnellen Entwicklung der Anforderungen in der Forschung.
Awarded
- Supply
zwei Sätze von acht Öfen zu erwerben, bestehend aus vier Rohren für chemische Niederdruck-Dampfabscheidungsverfahren (LPCVD) und vier atmosphärischen Rohren für die CMi
- Location
- Canton VD
- Procuring office
- EPFL-Scientific Equipment
- Requesting office
- EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
Awarded
Awarded to
- centrotherm international AG, BlaubeurenPrice not published
What is being procured?
Scope of work
Die EPFL beabsichtigt, zwei Sätze von acht Öfen zu erwerben, bestehend aus vier Rohren für chemische Niederdruck-Dampfabscheidungsverfahren (LPCVD) und vier atmosphärischen Rohren für ihr MicroNanotechnologie Center (CMi). Die Bewertung basiert auf der Prozessleistung, der Robustheit der Ausrüstung und der Benutzerfreundlichkeit/Wartungsfreundlichkeit. Die Leistung wird anhand der Einheitlichkeit der Abscheidung/des Wachstums, der Wiederholbarkeit und der Prozessdauer bewertet. Die allgemeinen Anforderungen sind:
• (1 Rohr) LPCVD-Deposition von Polysilicium (Poly-Si), amorphem Silicium (aSi), N-dotiertem Polysilicium (N-Si) und P-dotiertem Polysilicium (P-Si) hoher Qualität und Dichte mit geringen Verunreinigungs- und Wasserstoffgehalten.
• (1 Rohr) LPCVD-Abscheidung von hochgradig stechiometrischem, hochbelastetem Siliziumnitrid (Si3N4) und niedrigbelastetem Siliziumnitrid (lsnit) hoher Qualität und Dichte mit geringen Verunreinigungen und Wasserstoffgehalten.
• (1 Rohr) LPCVD-Abscheidung von SiO2-Oxid (LTO) mit hoher Qualität und Dichte bei niedriger Temperatur, niedrigem Verunreinigungs- und Wasserstoffgehalt.
• (1 Rohr) LPCVD-Deposition von SiO2 TEOS-Oxid mit hoher Qualität und Dichte, niedrigem Verunreinigungs- und Wasserstoffgehalt.
• (1 Rohr) Trockene thermische Oxidation von Silizium.
• (1 Rohr) Feuchtig/trockene thermische Oxidation von Silizium.
• (1 Rohr) Hitzeglühen bei hohen Temperaturen (1250°C) unter N2.
• (1 Rohr) Feuchtig/trockene thermische Oxidation von Silizium, unter Formgas (N2/H2) oder Stickstoff N2 geglüht.
Key facts, codes and options
Key facts, codes and options
- Type of contract
- Supply
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- Purchase
- Procedure
- Open procedure
- Trades
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- CPV
- CPV 38000000 – Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
- Options
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- Variants
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- Partial offers
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Official source
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- simap project number
- 25704
- Publication number
- 25704-02
- Covered by international agreements
- Yes
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